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名称 機関 メーカー 共用範囲
Eitre3
ナノインプリントシステム (Nanoimprint Lithography)
京都大学
Obducat
学内学外とも共用
OVE-350
電子線蒸着装置 (2) (Electron Beam Evaporator No.2)
京都大学
大阪真空機器製作所
学内学外とも共用
RIE-800iPB-KU
深堀りドライエッチング装置 (2) (Reactive Ion Deep Silicon Etcher No.2)
京都大学
サムコ
学内学外とも共用
ELS-100T
超高精細電子ビームリソグラフィー装置 (Ultra high definition electron beam lithography system)
大阪大学
エリオニクス (ELIONIX)
学内学外とも共用
ELS-BODEN-OU4801
自動搬送電子ビーム描画装置 (Automatic Transport Electron Beam Lithography System)
大阪大学
エリオニクス (ELIONIX)
学内学外とも共用
ELS-S50LBC
高速大面積電子ビームリソグラフィー装置 (High speed and large area electron beam lithography system)
大阪大学
エリオニクス (ELIONIX)
学内学外とも共用
PLS-1010
LED描画システム (LED drawing system)
大阪大学
ピーエムティー (PMT)
学内学外とも共用
MA-10
マスクアライナー (Mask aligner)
大阪大学
ミカサ (Mikasa)
学内学外とも共用
Eitre 3
ナノインプリント装置 (Nanoimprint system)
大阪大学
オブデュキャット (Obducat)
学内学外とも共用
RIE-400iPB-NP
深掘りエッチング装置 (Deep etching system)
大阪大学
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
RIE-10NR-NP
リアクティブイオンエッチング装置 (Reactive ion etching system)
大阪大学
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
RIE-10NOU
リアクティブイオンエッチング装置 (Reactive ion etching system)
大阪大学
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
ARF-30K
高温熱処理装置(セラミックス電気管状炉) (Electric Furnace)
大阪大学
誠南工業株式会社 (Seinan Industries Co., Ltd)
学内学外とも共用
EB1100
多元DC/RFスパッタ装置 (Multi-target DC/RF sputtering system)
大阪大学
キャノンアネルバ (CANON ANELVA)
学内学外とも共用
SVC-700LRF
RFスパッタ成膜装置(金属成膜用)(RF sputtering system (metal))
大阪大学
サンユー電子 (Sanyu Electron)
学内学外とも共用
SVC-700LRF
RFスパッタ成膜装置(絶縁体成膜用)(RF sputtering system (oxide))
大阪大学
サンユー電子 (Sanyu Electron)
学内学外とも共用
MB02-5002
誘導結合型RFプラズマ支援スパッタ装置(ICP-RFスパッタ装置)(RF-Sputtering System with Inductively Coupled Plasma )
大阪大学
株式会社アルバック (ULVAC, Inc.)
学内学外とも共用
UEP-2000 OT-H/C
EB蒸着装置 (EB deposition system)
大阪大学
アルバック (ULVAC)
学内学外とも共用
PLO-020R
パルスレーザーMBE装置(PLD)(Pulse Laser Deposition System)
大阪大学
誠南工業株式会社 (Seinan Industries Co., Ltd)
学内学外とも共用
MC-LMBE
自動制御型パルスレーザ蒸着ナノマテリアル合成装置 (Automatic pulsed laser deposition nano-materials synthesis system)
大阪大学
株式会社パスカル (Pascal Co.,Lid.)
学内学外とも共用
ELS-G100
超高精度電子ビーム描画装置 (Ultra high precision electron beam lithography system)
広島大学
エリオニクス (Elionix)
学内学外とも共用
DL-1000
マスクレス露光装置 (Maskless photolithography system)
広島大学
株式会社ナノシステムソリューションズ (NanoSystem Solutions, Inc.)
学内学外とも共用
MLA-150
マスクレス露光装置 (Maskless photolithography system)
広島大学
ハイデルベルグ・インストルメンツ (Heidelberg Instruments)
学内学外とも共用
スピンコータ (Spin Coater)
広島大学
タツモ(株) (TAZMO)
学内学外とも共用
L-Edit
レイアウト設計ツール (Mask layout design tool)
広島大学
Tanner (Tanner)
学内学外とも共用
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自然科学研究機構分子科学研究所 機器センター
〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
電話番号:0564-55-7490
MAIL : eqnet-office@ims.ac.jp
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