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名称 機関 メーカー 共用範囲
MA-6
マスクアライナー [MA-6]
物質・材料研究機構
ズース・マイクロテック
学内学外とも共用
AQ-500
水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #2]
物質・材料研究機構
サムコ
学内学外とも共用
CFS-4EP-LL
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #2]
物質・材料研究機構
芝浦メカトロニクス
学内学外とも共用
MB-501010
電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
物質・材料研究機構
エイコー・エンジニアリング
学内学外とも共用
UEP-3000BS
電子銃型蒸着装置 [UEP-3000BS]
物質・材料研究機構
アルバック
学内学外とも共用
SUNALE R-150
原子層堆積装置 [SUNALE R-150]
物質・材料研究機構
PICOSUN JAPAN
学内学外とも共用
CE300I
ICP-RIE装置 [CE300I]
物質・材料研究機構
アルバック
学内学外とも共用
RTP-6
赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]
物質・材料研究機構
アドバンス理工
学内学外とも共用
DAD3220
ダイシングソー [DAD3220]
物質・材料研究機構
ディスコ
学内学外とも共用
HMP-400
室温プローバー [HMP-400]
物質・材料研究機構
ハイソル
学内学外とも共用
GRAIL-408-32-B
低温プローバー [GRAIL-408-32-B]
物質・材料研究機構
ナガセテクノエンジニアリング
学内学外とも共用
7476D
ワイヤーボンダー [7476D #1]
物質・材料研究機構
ウェスト・ボンド
学内学外とも共用
MLA 150
マスクレス露光装置 [MLA150]
物質・材料研究機構
ハイデルベルグ・インスツルメンツ
学内学外とも共用
CABL_9410TFNA
電子ビーム描画装置(CRESTEC) (Electron Beam Lithography System (CRESTEC))
産業技術総合研究所
クレステック (CRESTEC)
学内学外とも共用
DL1000
マスクレス露光装置 (Maskless Lithography System)
産業技術総合研究所
ナノシステムソリューション (Nano System-Solutions)
学内学外とも共用
MJB4
コンタクトマスクアライナー[MJB4] (Contact Mask Aligner〔MJB4〕)
産業技術総合研究所
ズース (SUSS MicroTec)
学内学外とも共用
NSR-2205i12D
i線露光装置 (i-Line Stepper)
産業技術総合研究所
ニコン (Nikon)
学内学外とも共用
RIE-200L
反応性イオンエッチング装置 (RIE) (Reactive Ion Etching System(RIE))
産業技術総合研究所
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
RIE-101iPHS-L
多目的エッチング装置(ICP-RIE) (ICP Reactive Ion Etching System(ICP-RIE))
産業技術総合研究所
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
電子ビーム真空蒸着装置 (Electeron Beam Vacuum Evaporator)
産業技術総合研究所
エイコーエンジニアリング (EIKO ENGINEERING)
学内学外とも共用
KIS_3
抵抗加熱型真空蒸着装置 (Resistance Heating Vacuum Evaporator)
産業技術総合研究所
ビームトロン (Biemtron)
学内学外とも共用
i-Miller
スパッタ成膜装置(芝浦) (Sputtering System(Shibaura))
産業技術総合研究所
芝浦メカトロニクス (SHIBAURA)
学内学外とも共用
メッキ装置 (Electroplating Equipment)
産業技術総合研究所
山本鍍金試験器 (Yamamoto-ms)
学内学外とも共用
PD-20SS
プラズマCVD薄膜堆積装置 (Plasma-assisted CVD(TEOS/SiO2))
産業技術総合研究所
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
FlexAL
原子層堆積装置_1[FlexAL] (Atomic Layer Deposition_1〔FlexAL〕)
産業技術総合研究所
オックスフォードインスツルメント (Oxford Instruments Plasma)
学内学外とも共用
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自然科学研究機構分子科学研究所 機器センター
〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
電話番号:0564-55-7490
MAIL : eqnet-office@ims.ac.jp
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