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名称 機関 メーカー 共用範囲
PALET DDB-701-DL4
マスクレス露光装置 (Maskless lithography)
名古屋大学
ネオアーク
学内学外とも共用
NH-20SR-WMH
イオン注入装置 (Ion implantation)
名古屋大学
日新電機 (Nissin Electric)
学内学外とも共用
Heatpulse 610
急速加熱理装置 (Rapid thermal annealing)
名古屋大学
AG Associates (AG Associates)
学内学外とも共用
HSR-522
3元マグネトロンスパッタ装置 (3 sources magnetron sputtering)
名古屋大学
島津製作所 (SHIMADZU)
学内学外とも共用
JBX6300FS
電子線露光装置 (Electron beam lithography)
名古屋大学
日本電子 (JEOL)
学内学外とも共用
MA-6
両面露光用マスクアライナ (Mask aligner)
名古屋大学
Suss MicroTec AG (Suss MicroTec AG)
学内学外とも共用
RIE-800
ICPエッチング装置 (ICP etching)
名古屋大学
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
DAD522
ダイシングソー装置 (Dicing saw)
名古屋大学
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
UFL-Hybrid
フェムト秒レーザー加工分析システム (fs laser microfabrication and analysis system)
名古屋大学
輝創 (Kisoh)
学内学外とも共用
8元マグネトロンスパッタ装置 (8 sources magnetron sputtering)
名古屋大学
自作 (Lab made)
学内学外とも共用
8元MBE装置 (8 sources molecular beam epitaxy)
名古屋大学
自作 (Lab made)
学内学外とも共用
ECR-SIMSエッチング装置 (ECR-SIMS etching)
名古屋大学
自作 (Lab made)
学内学外とも共用
DC110
スプレーコーター (Spray coater)
名古屋大学
サンメイ (Sunmay)
学内学外とも共用
RIE-10N
リアクティブイオンエッチング装置 (Reactive ion etching)
名古屋大学
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
MODEL272-2
電気炉 (Electric furnance)
名古屋大学
光洋リンドバーグ (KOYO Lindberg)
学内学外とも共用
MODEL270-M100
酸化・拡散炉 (Oxidization and diffusion furnance)
名古屋大学
光洋リンドバーグ (KOYO Lindberg)
学内学外とも共用
ET200
小型微細形状測定機 (Surface profiler)
名古屋大学
小坂研究所 (Kosaka Laboratory)
学内学外とも共用
PD-240
プラズマCVD装置 (Plasma CVD)
名古屋大学
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
DWL66FS
レーザー描画装置 (Laser lithography)
名古屋大学
Heidelberg Instruments (Heidelberg Instruments)
学内学外とも共用
K310P100S
フォトリソグラフィ装置群 (photo lighography system)
名古屋大学
共和理研 (Kyowariken)
学内学外とも共用
EBX-10D
電子ビーム蒸着装置 (Electron beam evaporation)
名古屋大学
アルバック (ULVAC)
学内学外とも共用
CE-300I
ICPエッチング装置 (ICP etching)
名古屋大学
アルバック (ULVAC)
学内学外とも共用
RIE-10NR
RIEエッチング装置 (RIE etching)
名古屋大学
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
S5200
走査型電子顕微鏡 (Scanning electron microscope)
名古屋大学
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
学内学外とも共用
S4300
走査型電子顕微鏡 (Scanning electron microscope)
名古屋大学
日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Tech)
学内学外とも共用
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自然科学研究機構分子科学研究所 機器センター
〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
電話番号:0564-55-7490
MAIL : eqnet-office@ims.ac.jp
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