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顕微鏡 > 試料加工装置

高精細集束イオンビーム装置 (High definition focused ion beam system)
学内学外とも共用 マテリアル先端リサーチインフラ

設置機関 大阪大学
研究科・学部
設備分類 顕微鏡 > 試料加工装置
製造元 カールツァイス (Carl Zeiss)
型番 ORION NanoFab
設備名称 高精細集束イオンビーム装置 (High definition focused ion beam system)
装置スペック 【特徴】 イオン源にHeガスを採用し、最小ビーム径0.5nmφ の分解能を有する。 FIB:10nm以下の微細加工が可能。 ヘリウムイオン顕微鏡:中和銃装備のため導電性処理無しで絶縁体の観察が可能。生体試料の観察にも適する。 【仕様】 イオン源:He / Ne (希ガス) 最小ビーム径:0.5 nm (He),1.9 nm (Ne) 加速電圧:10~40 kV ET検出器:2次電子 電子中和銃(Flood gun)装備 GIS:Pt、SiO2、XeF2 試料サイズ: 45mmφ
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〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
電話番号:0564-55-7490
MAIL : eqnet-office@ims.ac.jp
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