| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | AOV(株) (AOV Co., ltd.) |
| 型番 | LAEX-1000 |
| 設備名称 | レーザアニール装置 (KrF Laser Annealing System) |
| 装置スペック | KrFレーザーを結像マスクを介して真空チャンバー内のサンプルに縮小投影することで、ターゲット表面のアニーリングを実現。 ・波長:248nm ・ビーム縮小率:7.95 ・分解能:5.3μm@L/S |
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