デバイス >
Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス） (Reactive ion etching equipment (Non-Bosch))
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | サムコ (Samco Inc.) |
| 型番 | RIE-10NR |
| 設備名称 | Reactive Ion Etching 装置（非Boschプロセス） (Reactive ion etching equipment (Non-Bosch)) |
| 装置スペック | CF4, O2, SF6を用いたレジストアッシングや、SiおよびSiO2、石英ガラス、窒化膜のエッチング Φ6インチまでのガラス及びシリコン基板に対応 |
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