| 設置機関 | 東京工業大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | アリオス |
| 型番 | DCVD-601BTG |
| 設備名称 | マイクロ波プラズマCVD装置 (Mircowave plasma enhanced CVD) |
| 装置スペック | マイクロ波周波数 2.45 GHz、マイクロ波パワー 最大6 kW、水素・メタンガスによるダイヤモンド合成、窒素ガスによる不純物ドーピング、基板サイズ 50mmΦまで 窒素を添加することで、現在注目されている量子センサである窒素-空孔(NV)センタを作ることも可能です。 |
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