| 設置機関 | 東京工業大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | Ultratech/CamnbridgeNanotech |
| 型番 | FijiF20 |
| 設備名称 | 原子層堆積装置 (Atomic layer deposition) |
| 装置スペック | ロードロック機構付 プラズマ式/サーマル式の両方のモードでの原子層堆積が可能。化合物半導体等のMIS構造での低界面準位密度などに実績あり。(成膜温度で揮発し、装置を汚染する可能性のある材料は禁止) 酸素源:オゾンおよび水の両方の利用が可能 |
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